重生2011,二本捡漏985 - 重生2011二本捡漏985 第562

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    所以没必要等几年后研发出duv光刻机,再推进euv光刻机研发,这样太慢了。

    相反直接立项,两代产品,两代技术,一同研发!

    如此魄力,王逸都很佩服。

    索性道:“euv光刻机的确困难,需要的上下游产业链太多,咱们差得很远。但换个思路,如果euv光刻机不好做,做一个euv光刻厂……会不会容易一点?”

    “euv光刻厂?”秦主任眼睛一亮:“你详细说一说。”

    王逸略微思忖,刚想开口,却被秦主任直接打断:

    “王董,你稍等下,这种严密的技术性问题,我也不在行,可否让我录个视频,回去给专家院士看?”

    “没问题。”王逸摆了摆手。

    “谢谢!”秦主任和蔼一笑,当即拿出星逸xphone 1,打开视频录制:“好了,王董,请继续说。”

    王逸点点头:“众所周知,阿斯麦的euv光刻机之所以厉害,能做到5纳米以下的芯片制程,就是因为它能制造135纳米的极紫外光源,这种光源是未来5纳米以下制程芯片的关键。”

    “而duv光刻机的深紫外光源,最多能制造10纳米芯片。通过多重曝光技术,才能量产7纳米,5纳米。甚至5纳米的良品率都不高,成本却不低。至于5纳米以上的4纳米,3纳米,那更不现实,只能靠euv光刻机的极紫外光源。”

    “同样,我们本质上需要的不是euv光刻机,而是135纳米的极紫外光源!”

    “euv光刻机我们目前造不了,未来难度也很大。但是我们反其道而行,通过其他方式,实现极紫外光源,也能制造出4纳米,3纳米,甚至2纳米,1纳米芯片。”

    “比如我之前提到的光刻厂!”王逸顿了顿,继续道:

    “建一个光刻厂,通过粒子对撞,实现极紫外光源,然后通过光刻厂的模式,实现euv光刻机的效果。”

    ……

    “当然,我并非半导体专业人士,以上内容只是基于我不成熟的想法,随口一说。”

    “能不能实现,我就不知道了。若是不能实现,还请各位大佬海涵。”

    至于能不能实现,他也不知道,但理论上应该可以。

    前世华清大学的euv光刻机,就是要走这个路线,完全不同于阿斯麦的技术路线。

    若是真能实现,直接从根源上避开了阿斯麦的专利。

    毕竟极紫外光源的产生方式都不一样,也就没有侵犯专利这一说了。

    国产技术突破的难度,不只是要做出同样的产品和等效的技术,还要避开西方的专利壁垒,采取完全不同的技术路线。

    这就难上加难了。

    但即便如此,前世依旧把工业皇冠上的明珠,差点全部摘秃噜皮。

    秦主任笑着伸出手:“谢谢,你这些观点很重要,我这就上报。无论如何,都很感谢。”

    “主任言重了,若是我说得不对,你们就当我瞎说,海涵。”

    “呵呵,那不会。科学的探索本就是知无不言,言无不尽。何况是这么别出心裁的建议,意义重大!”

    王逸摆了摆手:“不成熟的想法罢了,希望有点参考价值。光刻机这个东西难,光刻胶也难,都得看国家机器了。”

    秦主任点点头:“放心,光刻胶也是官方大力扶持的领域,必须突破!”

    王逸松了口气,若是这些难题官方都逐步搞定,那就稳了。

    又交流了一番,王逸离开管委会。

    而秦主任则直奔某机要之地,汇报王逸的想法。

    不管成不成的,都是一个新的思路,让院士专家鉴定一下也好。

    不成,可以当做一个思路,有借鉴意义。

    若是成了,那就再好不过,弯道超车都有可能。

    届时,王逸都是大功一件。

    没办法,造晶圆厂可以,研发芯片也可以,但研发光刻机,王逸真办不到。

    太难了。

    只能把自己知道的思路都说了,多少提供点帮助。

    若是光刻机厂建成,国产euv突破,那就再好不过。

    但若是突破不了,也没有办法,只能用duv光刻机多重曝光技术,凑合着来。

    至于国产duv光刻机,现在官方大力扶持,最快也得四五年才能研发成功。

    王逸的晶圆厂一期今年年底就能建好,根本等不了。

    还得先订购阿斯麦的duv光刻机啊!

    阿斯麦的光刻机都得提前一年左右订购。


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